陸EUV技術出現關鍵新突破　全球光刻機龍頭ASML保持沉默

...、雙工件台等七項光刻機核心技術。陸媒《網易》報導稱，哈工大突破13.5奈米EUV光源技術，採用粒子加速產生紫光，與ASML採用的美國光源技術和德國徠卡的透鏡技術不同，展現更具突破性的創新。中芯國際和華為等大陸企業已

6天前 16:10 | ettoday | 關鍵字: 技術   光刻   大陸   光源   國產   哈工大   保持沉默   極紫外   荷蘭   陸媒